건식/습식
나노화 분쇄 방식에 따른 특장점
습식 분쇄기를 활용한 나노화 분쇄
- 습식 분쇄기의 종류로는 Ring mill, Rotate mill, Batch mill 등이 있으며 모두 나노 사이즈 입자화가 가능합니다.
- 습식 가공에서 가장 많이 사용되는 장비는 Ring mill 로서 그 원리는 가공 원료가 분산 베셀의 내부로 유입되어 내부에 충진 되어있는 비드와 충돌 후 분쇄되어 베셀 외부의 스크린을 통과하는 것을 반복하여 나노 분쇄 가공이 이루어지는 방식입니다
건식 분쇄기를 활용한 나노화 분쇄
- 건식 분쇄기의 원리는 높은 압력의 gas를 공급받아 Grinding zone 내부의 노즐을 통과하면 빠른 속도의 회전운동 에너지로 변환, 이때 가공 원료간의 상호 충돌이 발생하여 분쇄되고, 분쇄 후 작은 입자는 product outlet 공간으로 배출되며 큰 입자는 계속 분쇄되는 원리입니다.
- 건식 분쇄 장치는 입자크기의 균일성이 낮고, 많은 제조시간이 소요됩니다.
- 또한 이렇게 가공 생산된 생산물의 경우 입자크기 및 기능성, 효용성 향상에 대한 보장을 나타내지 않고 있습니다.
ISBIO의 나노화 공정의 차별성
- ISBIO의 나노화 공정은 습식 나노 가공 방식을 사용하여 다양한 원료의 혼합사용이 가능하고 물 이외의 용매 사용이 자유롭습니다.
- 나노 분쇄 시 가장 큰 문제인 재응집 방지 및 다양한 제형화 기술을 보유하고 있습니다.
- 100nm 수준의 정밀 나노 가공이 가능합니다.
- 비금속성 재료의 적용으로 장비의 마모로 인한 금속 오염성이 없습니다.
나노 분쇄 방식에 따른 특장점
| 건식분쇄 | 습식분쇄 | |
|---|---|---|
| 나노 분산 가능성 | 가능성 낮음 | 가능 |
| 분쇄 후 입자크기 균일성 | 낮음 | 높음 |
| 미립자의 재응집 여부 | 재응집 잘됨 | 재응집 방지 가능 |
| 다양한 원료의 혼합 가능성 | 불가능 | 가능 |
| 저장성 (저장 시 원료 변형 여부) |
보통 | 좋음 |
